We designed and fabricated a novel monolithic active pixel sensor (MAPS), in STMicrolectronics 0.13 µ m CMOS technology, exploiting the triple well option to implement, at the pixel level, a more complex signal processor and to increase the size of the charge collecting electrode with respect to previously developed CMOS MAPS. This was possible using the deep n-well, available in triple well technology, as a sensing electrode and placing, in the same physical area, part of the readout electronics. The signal processing chain, implemented in the elementary cell, includes a low noise charge preamplifier, a shaper, a discriminator and a latch. The first prototype chips have been successfully tested with very encouraging results. In this work we present the performance of the front-end electronics and the response of the sensor to ionizing radiation.

A novel monolithic active pixel detector in a 0.13 µm triple well CMOS technology with pixel level analog processing

MANGHISONI, Massimo;RE, Valerio;TRAVERSI, Gianluca;
2006-01-01

Abstract

We designed and fabricated a novel monolithic active pixel sensor (MAPS), in STMicrolectronics 0.13 µ m CMOS technology, exploiting the triple well option to implement, at the pixel level, a more complex signal processor and to increase the size of the charge collecting electrode with respect to previously developed CMOS MAPS. This was possible using the deep n-well, available in triple well technology, as a sensing electrode and placing, in the same physical area, part of the readout electronics. The signal processing chain, implemented in the elementary cell, includes a low noise charge preamplifier, a shaper, a discriminator and a latch. The first prototype chips have been successfully tested with very encouraging results. In this work we present the performance of the front-end electronics and the response of the sensor to ionizing radiation.
journal article - articolo
2006
Inglese
cartaceo
online
565
1
195
201
Settore ING-INF/01 - Elettronica
Monolithic active pixel sensors; MAPS; CMOS pixels; charged particle tracking;
L’articolo si colloca nel contesto della ricerca sui dispositivi elettronici nelle tecnologie più avanzate oggi disponibili. Si tratta di dispositivi basati su strati di ossido di silicio di pochi nanometri, e con definizione geometrica dell’ordine di 100 nanometri, che trovano applicazione nei più innovativi sistemi di telecomunicazioni e di elaborazione delle informazioni. Si tratta di settori di ricerca fra i più attivi a livello scientifico internazionale. L’articolo presenta un nuovo sensore monolitico a pixel attivi fabbricato in tecnologia CMOS 130 nm. Rispetto agli image sensor CMOS tradizionali, in questo nuovo dispositivo tutta l’elettronica di elaborazione di segnale è integrata nel singolo pixel, sfruttando le potenzialità di una tecnologia CMOS “nanoscale”. La soluzione originale proposta con il nuovo sensore riveste notevole interesse dal punto di vista della fisica e della tecnologia dei dispositivi, e si inserisce in un campo di ricerca scientifica molto importante come l’imaging in applicazioni mediche e scientifiche (scienza dei materiali, esperimenti di fisica delle alte energie). Questo lavoro è stato presentato all’International Workshop on Semiconductor Pixel Detectors for Particles and Imaging (PIXEL2005), Bonn (Germania), September 5-8, 2005. La rivista su cui è stato pubblicato successivamente l’articolo è una delle più prestigiose in questo campo a livello internazionale.
Rizzo, G.; Bettarini, S.; Calderini, G.; Cenci, R.; Forti, F.; Giorgi, M. A.; Morsani, F.; Ratti, L.; Speziali, V.; Manghisoni, Massimo; Re, Valerio; ...espandi
info:eu-repo/semantics/article
none
no full text
13
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262
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